机译:脉冲激光烧蚀技术沉积Bi2VO5.5 / Bi4Ti3O12双层薄膜的结构和电学表征
机译:脉冲激光烧蚀技术沉积Bi2VO5.5 / Bi4Ti3O12双层薄膜的结构和电学表征
机译:脉冲激光烧蚀技术沉积Bi2VO5.5 / Bi4Ti3O12双层薄膜的结构和电学表征
机译:脉冲激光烧蚀沉积偏铌酸铅薄膜的结构和电学特性
机译:脉冲激光烧蚀沉积的铅化型薄膜的结构表征
机译:通过脉冲激光沉积法沉积的碲化铋和碲化锑薄膜的结构,电学和光学特性。
机译:飞秒脉冲激光沉积TiO2薄膜的相变形貌光学和电学性质
机译:成分调制的$ Pb left(Mg _ { frac {1} {3}} Nb _ { frac {2} {3}} right)通过脉冲受激准分子激光烧蚀技术沉积的O_3-xPbTiO_3 $弛豫薄膜